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          什么是PVD涂層技術?

          返回列表 來源:阿諾 瀏覽:- 發布日期:2016-07-05 10:24:20【

          PVD(Physical Vapor Deposition物理氣相沉積)是在真空條件下,通過電弧使大面積固態靶材高度蒸發離化,在可控的方式下與通入的反應氣體結合,在產品表面形成1-10um的超硬薄膜,是表面處理領域的一項頂尖技術,該種膜層在真空密封的腔體內形成,所以沒有任何環境污染問題,是綠色環保的技術;PVD工藝溫度一般在500°以內,所以相比PVD涂層,有著更廣泛的應用,可以在大部分基材上成膜。

          阿諾涂層采用目前最優化的磁場結構,這種最新的磁場結構,在大電流的情況下也能夠精確控制電弧的運動,最大限度的減少液滴,涂層質量更好,涂層表面更光滑。

          TiAlN 表面粗糙度 TiAlN 表面粗糙度

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          【本文標簽】:PVD涂層技術
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